日下 一也

居  室   : 機械工学科M棟 3階 322室

専門分野  : X線応力測定

研究テーマ : X線回折を用いた窒化物半導体薄膜の残留応力測定

高い音響速度と圧電特性に優れるため弾性表面波素子や高周波フィルターへの適用が期待されるAlN、青色発光ダイオードで知られるGaNなどのV−X族半導体薄膜をスパッタリング法により廉価なガラス基板上へ堆積させる。得られた膜の特性評価として主にX線回折を用いて非破壊的に残留応力を調べている。そして、残留応力の発生機構を解明し、良質な膜を得るための最適な堆積条件を見つけることを目標としている。

所属学会  : 日本材料学会(1993.10-)、日本機械学会(1994.10-)、American Vacuum Society(2000.1-)、表面技術協会(2001.1-)、日本工学教育協会(2001.9-)

学会活動  : 日本材料学会 X線材料強度部門委員会幹事(1999.5-)、日本材料学会 企画事業委員会委員(2001.3-)

研究業績

 

 kusaka@me.tokushima-u.ac.jp

 

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